在清洗过程中许多清洗都要用到水，随着高新技术的发展对清洗所用的水要求越来越高，最有代表性的是工业电子元件制备中对水的要求不断升级换代。现代微电子技术的伟大成就，来源于20世纪40年代对半导体理论的深入认识，40年代末半导体晶体管的发明, 50年代末硅平面型工艺的发展与成熟，以及60年代MOS场效应器件走向稳定可靠等一系列。工业超纯水机在电子行业中的作用
随着电子工业的发展对高纯水提出了越来越高的要求。例如，制作16K位DRAM允许水中TOC(总有机碳)为500ppb、金属离子为1ppb≥0.2μm的颗粒为100个/毫升;而制作16M位DRAM时，则要求TOC<5ppb、金属离子<0.2ppb、水中≥0.1μm颗粒数为0.6个/升。 可以说在电子级超纯水制备系统中汇集了当前水处理技术最先进的工艺和设备,如超滤、微滤、反渗透、膜脱气、电去离子(EDI)等,其中反渗透装置是整个纯水、超纯水制备系统工程中一关键的设备.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性无机物质、99%以上的相对分子质量大于300的有机物、99%以上的包括细菌在内的各种微粒和95%以上的二氯化硅. 反渗透工艺在纯水、超纯水制备系统工程中的应用,不但能提高了产水品质,降低生产成本,而且防止环境污染,有力地推进了电子工业的进步,同时也促进了纯水、超纯水制造技术的发展。 工业超纯水机已被广泛应用在电子工业中，由于其稳定的出水水质，简单的操作，方便快捷，备受电子行业的宠爱。
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